>> AMC分析軟體開發與應用
在AMC (Airborne Molecular Contamination,以下簡稱AMC)控制中，預測無塵室內的濃度，對化學過濾網之應用一直是一個十分重要的環節。
尤其當化學過濾網一旦裝上去之後，其上游濃度就不再是原來那樣大，因此，我們必須一併考慮化學過濾網之效應，才能有效地定義化學過濾網之上游濃度及合理之驗收標準。
本期電子報，我們將介紹亞翔獨自開發撰寫之C++程式，以供大家參考。
>> 前言
前言
此一軟體之開發，主要是著眼於同時處理photo生產區及maskroom之reticle儲放區之AMC問題處理。
在一般應用裡，常常把maskroom放在photo區裡，有maskroom一同伴隨photo區回風的型式，也有maskroom本身獨立回風之型式，但不論如何，我們都必須能同時評估兩個同空間之交互作用。
這是開發此一軟體之緣由。
我們係利用簡易之mass conservation law及control volume之概念，先推導出方程式，再將其以矩陣(matrix)型式表達，並求解矩陣之解。
>> 分析模型
分析模型
如下圖所示，在一無塵室有一獨立隔間，與其一同回風。
>> 質量守恆及控制體積法
質量守恆及控制體積法
如上圖之控制體積 (control volume)之劃分，我們可以推求如下之方程式
而上述之方程式，可以再表為矩陣如下：
>> 應用
應用
1. 分析軟體依另外獨立小房間之空調型式，可以再分成多種不同型式，如下圖以maskroom為標的，可以再細分如下圖所示 ：
2. 本軟體之大房間內有一小房間模式，其實也可以把該小房間視為某一機台來看，或是無塵室內某一區域。
3. 本軟體可以提供無塵室不同FFU coverage之設計之用。
>> 結論
結論
亞翔已成功開發AMC之預測應用軟體，並已實際應用於多個工程案件中，同時亦有與其他化學過濾網供應商實際比對之經驗。
相信，我們必能夠在AMC控制之服務領域上提供更佳之服務。